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霍爾離子源 eH 3000
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霍爾離子源 eH 3000

KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海天天看代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 , KRI 霍爾離子源 eH 係列裏麵尺寸最大, 能量最大的離子源. 適用於高功率和高流量應用. 霍爾離子源 eH 3000 輸出高離子電流, 適用於大型離子輔助鍍膜. 例如安裝在沉積尺寸超過 1米的應用. 霍爾離子源 eH 3000 是鍍膜生產中最具高效的離子源之一.

KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數:

型號

eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

50-250V VDC

  - 離子源直徑

~ 7 cm

  - 陽極結構

模塊化

電源控製

eHx-25020A

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

 - 離子束發散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽極

標準或 Grooved

 - 水冷

前板水冷

 - 底座

移動或快接法蘭

 - 高度

4.0'

 - 直徑

5.7'

 - 加工材料

金屬
電介質
半導體

 - 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

 - 安裝距離

16-45”

 - 自動控製

控製4種氣體

* 可選: 可調角度的支架;

KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域:
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表麵改性, 激活 SM
直接沉積 DD

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