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渦輪分子泵脈衝激光沉積係統 PLD 抽真空
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渦輪分子泵脈衝激光沉積係統 PLD 抽真空

上海天天看德國普發 Pfeiffer  渦輪分子泵組脈衝激光沉積係統應用
脈衝激光沉積(Pulsed Laser Deposition, PLD),是一種利用激光對物體進行轟擊,然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上, 得到沉澱或者薄膜的一種手段. PLD 係統由多個真空腔體組成,整個係統需要超高真空且不能引入任何雜質,對環境的清潔度要求較高,必須配備無油幹泵和分子泵抽真空。由於各個輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 pfeiffer Hicube 係列分子泵組. 天天看公司銷售維修的 Pfeiffer 分子泵組因其結構緊湊體積小,清潔無油(前級泵配備幹泵)、抽速快、極限真空度高達10-11mbar等優點一經上市好評如潮。

客戶案例一:江蘇某大學電信係 脈衝激光沉積係統
1.係統功能:主要用於Mn氧化物等複雜材料膜。
2.渦輪分子泵真空度要求: 真空度< 1x10-6pa
3.樣品尺寸:6英寸
4.基片旋轉,加熱溫度:750℃
5.膜生長控製模式:鍍率/厚度/時間 控製模式
脈衝激光沉積係統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵 Pfeiffer Hipace 400
2.分子泵 Pfeiffer Hipace 80
3.幹泵 Pfeiffer MVP 040

Pfeiffer 渦輪分子泵
Pfeiffer 渦輪分子泵
客戶案例二:南京某大學物理學院
1.係統功能:主要用於Mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金屬膜的製備
2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.樣品尺寸:大約1cm2
4.基板加熱溫度:700至1000度
PLD係統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.pfeiffer 普發經濟型分子泵組 HiCube 80 Eco
2.Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 700
Pfeiffer 普發渦輪分子泵組應用於脈衝激光沉積係統
客戶案例三:上海某研究所  脈衝激光沉積係統基本規格:
1.係統功能:主要用於製備有機自旋閥器件,還可用於製備有機發光二極管、太陽能電池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.樣品尺寸:直徑2’
4.基板加熱溫度:1000度
5.鍍膜方式:Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生長控製模式:鍍率/厚度/時間 控製模式
該PLD係統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵組 pfeiffer HiCube 80*7
2.渦輪分子泵 pfeiffer Hipace 300*2
Pfeiffer 普發渦輪分子泵組應用於脈衝激光沉積係統
真空磁控濺射鍍膜機廣泛應用於家電電器、鍾表、燈具、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層。

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