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線性霍爾離子源 eH Linear
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線性霍爾離子源 eH Linear


KRI Ion Source eHL 線性離子源

KRI Ion Source eHL 線性離子源使用 eH 200 或 eH 400 做為模組,能應用於寬範圍的襯底,離子源長度高達 1 米,通過嚴格調整模組間的距離可以實現最佳的均勻性和離子流。由於模組是平行放置,大大簡化了氣體、功率和電子三者的分布。KRI eHL 線性產品使用標準的端部霍爾模組並使設備的需求簡化,一個低成本、高電流和低能量的離子束可以很好的使用於 web 塗層、in-line 沉積和圓柱旋轉濺射係統。

KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術參數:

型號

eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

40-200V VDC

  - 陽極結構

模塊化

電源控製

eHL-30010A

配置

-

  - 陰極中和器

Filamentless

  - 離子束發散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽極

標準或 Grooved

  - 底座

移動或快接法蘭

  - 高度

10 cm

寬度

10 cm

  - 長度

~ 100cm

  -工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

 

 

 

Model

eHL 200-3

eHL 200-5

Height (nominal)

2.9” (7.4cm)

2.9” (7.4cm)

Width (nominal)

3.3” (8.4cm)

3.3” (8.4cm)

Length (nominal)

Determined by number of modules & application

Determined by number of modules & application

Cathode/Neutralizer

Yes

Yes

Anode module

Yes

Yes

Filamentless

Yes

Yes

Orientation

Vertical / Horizontal

Vertical / Horizontal

Process gases

Inert, reactive, & organic

Inert, reactive, & organic

Power controller

eH Plasma Power Pack

eH Plasma Power Pack

 

 

 

 

 

 

 

KRI Ion Source

 

 

 

 

 

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